cotutgaulCoraSolar
IndoForum Senior A
- No. Urut
- 51340
- Sejak
- 28 Agt 2008
- Pesan
- 8.284
- Nilai reaksi
- 260
- Poin
- 83
Rabu, 10 Desember 2008
Sarie
JAKARTA - Intel Corporation telah menyelesaikan tahap pengembangan proses manufaktur generasi berikutnya dengan memperkecil ukuran sirkuit chip menjadi 32 nanometer (sepermiliar meter). Intel, sesuai jadwal, telah siap memproduksi teknologi generasi masa depan menggunakan transistor yang lebih hemat energi, lebih padat dan dengan kinerja lebih tinggi pada kuartal keempat 2009.
Intel akan memberikan lebih banyak detil teknis mengenai teknologi proses 32 nm dan juga membawakan beberapa topik lainnya dalam presentasi pada 'International Electron Devices Meeting' (IEDM) minggu mendatang di San Francisco. Dengan selesainya tahap pengembangan teknologi proses 32 nm dan kesiapan untuk memproduksi dalam kurun waktu ini, Intel tetap menjaga tempo untuk memperkenalkan produk dan proses produksi baru sesuai dengan ambisinya dan strategi 'tick-tock' dari Intel.
Rencananya, Intel akan memperkenalkan prosesor dengan mikroarsitektur baru dengan proses manufaktur terdepan setiap 12 bulan, sebuah upaya yang tidak tertandingi di industri ini. Dengan diproduksinya chip 32 nm tahun depan, ini menandai pencapaian Intel dalam memenuhi target selama empat tahun berturut-turut.
Makalah dan presentasi mengenai Intel 32 nm mendeskripsikan teknologi berkenaan dengan teknologi high-k + metal gate generasi kedua, 193nm immersion lithography untuk membuat pola pada lapisan untuk jalur kritis dan peningkatan teknik kerapatan transistor. Fitur ini meningkatkan kinerja dan efisiensi energi dari prosesor Intel. Proses manufaktur Intel memiliki kinerja transistor terbaik dan kerapatan transistor tertinggi dari teknologi 32 nm lain yang ada di industri ini.
"Kehebatan proses manufaktur dan produk yang dihasilkan membuat kami semakin jauh memimpin dalam hal kinerja komputasi dan daya tahan baterai untuk laptop berbasis Intel, server dan desktop," kata Mark Bohr, Senior Fellow Intel dan director of process architecture and integration. "Seperti yang sudah kami perlihatkan tahun ini, strategi untuk manufaktur dan pelaksanaan juga memberikan kami kemampuan untuk dapat membuat jajaran produk baru untuk MID, perangkat CE, embedded computer dan netbook," tambahnya.
Makalah lainnya pada Intel IEDM akan mendeskripsikan versi low power system on chip untuk Intel 45 nm, transistor berbasis materi semikonduktor hasil rekayasa yang meningkatkan kinerja transistor 45 nm dengan menggabungkan bahan tambahan pada node 45 nm dan lebih tinggi; serta menggabungkan rangkaian modulator silicon photonic. Intel juga akan berpartisipasi dalam short course mengenai teknologi CMOS 22 nm. (srn)
moga sukses deh /no1
Sarie
JAKARTA - Intel Corporation telah menyelesaikan tahap pengembangan proses manufaktur generasi berikutnya dengan memperkecil ukuran sirkuit chip menjadi 32 nanometer (sepermiliar meter). Intel, sesuai jadwal, telah siap memproduksi teknologi generasi masa depan menggunakan transistor yang lebih hemat energi, lebih padat dan dengan kinerja lebih tinggi pada kuartal keempat 2009.
Intel akan memberikan lebih banyak detil teknis mengenai teknologi proses 32 nm dan juga membawakan beberapa topik lainnya dalam presentasi pada 'International Electron Devices Meeting' (IEDM) minggu mendatang di San Francisco. Dengan selesainya tahap pengembangan teknologi proses 32 nm dan kesiapan untuk memproduksi dalam kurun waktu ini, Intel tetap menjaga tempo untuk memperkenalkan produk dan proses produksi baru sesuai dengan ambisinya dan strategi 'tick-tock' dari Intel.
Rencananya, Intel akan memperkenalkan prosesor dengan mikroarsitektur baru dengan proses manufaktur terdepan setiap 12 bulan, sebuah upaya yang tidak tertandingi di industri ini. Dengan diproduksinya chip 32 nm tahun depan, ini menandai pencapaian Intel dalam memenuhi target selama empat tahun berturut-turut.
Makalah dan presentasi mengenai Intel 32 nm mendeskripsikan teknologi berkenaan dengan teknologi high-k + metal gate generasi kedua, 193nm immersion lithography untuk membuat pola pada lapisan untuk jalur kritis dan peningkatan teknik kerapatan transistor. Fitur ini meningkatkan kinerja dan efisiensi energi dari prosesor Intel. Proses manufaktur Intel memiliki kinerja transistor terbaik dan kerapatan transistor tertinggi dari teknologi 32 nm lain yang ada di industri ini.
"Kehebatan proses manufaktur dan produk yang dihasilkan membuat kami semakin jauh memimpin dalam hal kinerja komputasi dan daya tahan baterai untuk laptop berbasis Intel, server dan desktop," kata Mark Bohr, Senior Fellow Intel dan director of process architecture and integration. "Seperti yang sudah kami perlihatkan tahun ini, strategi untuk manufaktur dan pelaksanaan juga memberikan kami kemampuan untuk dapat membuat jajaran produk baru untuk MID, perangkat CE, embedded computer dan netbook," tambahnya.
Makalah lainnya pada Intel IEDM akan mendeskripsikan versi low power system on chip untuk Intel 45 nm, transistor berbasis materi semikonduktor hasil rekayasa yang meningkatkan kinerja transistor 45 nm dengan menggabungkan bahan tambahan pada node 45 nm dan lebih tinggi; serta menggabungkan rangkaian modulator silicon photonic. Intel juga akan berpartisipasi dalam short course mengenai teknologi CMOS 22 nm. (srn)
moga sukses deh /no1
